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원리

가공액은 오염액 입구를 통해 연속적으로 회전체로 흘러들어가고 강한 원심력이 주어집니다.
고형물은 회전체 내벽에 밀어 붙여져 분리, 침전되어 쌓입니다. 회전체에 고형물이 가득차면 청정장치를 정지시키고 청소를 해야 합니다. (회전체의 뚜껑을 풀어내면 침전된 고형물을 손으로 쉽게 제거할 수 있습니다.)
고형물이 제거된 청정액은 가공액 공급장치로 되돌아 갑니다.

용도

  • 각종 공작 기계 :
    가공액의 정화 및 절삭칩의 분리, 호닝머신, 건드릴 머신, 수퍼 피니싱 머신, 방전 가공기, 정밀 연마기, 전해연마기, 기어 연마기, 햇다, 전용기, 세척기, 절단기, 센타레스 연마기, 반도체 관련 가공장비, 기타
  • 렌즈, 프리즘 가공기, 유리가공기
  • 유압작동유, 냉동기 오일 내의 금속가루, 녹, 모래, 슬러지, 시일파편의 제거
  • 배수 1차 처리 : 도장부스 탱크 내의 찌꺼기 분리, 배수 중의 진흙, 모래, 기타 고형물의 제거

성능

단위 : ㎛(제거미립자 크기) / 비중 1.4 기준
유량 (ℓ/min) SF-20N SF-50N,S,A SF-100N,S,A SF-200S,A PSF-100A PSF-200A PSF-400A
5 5 2 1 1 1 1 1
10 7 3 1 1 1 1 1
20 10 5 2 1 2 1 1
30 (15) 7 3 1 3 1 1
50 10 5 3 5 3 1
75 (15) 7 4 7 4 3
100 10 5 10 5 4
150 (30) 7 (30) 7 5
200 10 10 7
400 10

* 상기표는 실험값으로 분리 효과는 액의 점도, 미립자의 비중에 따라 약간 차이가 있을 수 있음

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